مصنوعات کے زمرے
ہم سے رابطہ کریں

ہاؤائی میٹل میٹریٹری کمپنی، لمیٹڈ

ہاؤائی ٹائٹینیم کمپنی، لمیٹڈ


ایڈریس:

پودے نمبر 1، ٹاسپارک، صدی ایونیو،

Xianyang شہر، شانسی پرو، 712000، چین


ٹیلی فون:

+86 29 3358 2330

+86 29 3358 2349


فیکس:

+86 29 3315 9049


ای میل:

info@pvdtarget.com

sales@pvdtarget.com



خدمت ہاٹ لائن
029 3358 2330

خبریں

گھر > خبریںمواد

مصر سپٹرانگ ہدف کا مختصر تعارف

مصر دات سپٹرانگ ہدف مصر سپٹرانگ ہدف ک کوٹنگ صرف ال کٹران ا اعل توانائ ل زر کے ساتھ ہدف بمبار اور ا ک مصر سپٹرانگ ہدف ک طرف سے جوہر ا Ionic فارم م ں سطح جزو sputtering کے اور آخر م ں substrate سطح فلم عمل پر جمع کرنے کے طور پر سمجھا جا سکتا ہے، ک حتم تشک ل پتل فلم.

sputtering کے کئ قسم کے، مجموع نقطہ نظر م ں تقس م ک ا گ ا ہے، اور وانپ کرن کوٹنگ سپٹرانگ شرح سے مختلف ہے اہم پ رام ٹرز م ں سے ا ک بن جائے گا. sputtering کوٹنگ PLD م ں sputtering کوٹنگ، جزو کساں موٹائ کے کساں کے جوہر سائز نسبتا غر ب ہے جبکہ ( ہ سپندت sputtering ہے ک ونکہ)، کرسٹل سمت (ب رون کنارے) ترق کنٹرول بھ ز ادہ عام ہے، برقرار رکھنے کے لئے آسان ہے.

مصر دات سپٹرانگ ہدف

مصر دات سپٹرانگ ہدف ہمار کمپن ک فراہم و ک وم sputtering کے ہدف:

1.Metal اہداف، ٹائٹ ن م ہدف ٹ ، ٹن ہدف ا س و، hafnium ہدف HF ، س سہ ہدف پ ب ، نکل ہدف ن ، چاند ہدف AG، س ل ن م ہدف SE، ب ر ل م ہدف رہو ٹ ل ور م ہدف تے، کاربن ہدف C، و ن ڈ م ہدف و ، antimony کے ہدف SB، م ں indium ہدف، بوران ہدف B، tungsten کے ہدف W، م نگن ج ہدف MN، bismuth ہدف دو، تانبے ہدف کاپر، سلکان ہدف س ، ٹ نٹلم ہدف ٹا، زنک ہدف زن، م گن ش م ہدف مگرا، ZR، کروم م ہدف بنائ ں ا ک ب ح، سٹ نل س سٹ ل ٹارگٹ ا س ا س، niobium ہدف نا ب، molybdenum کے ہدف مو، کوبالٹ ہدف کے شر ک، لوہ ہدف فے، جرمان ئم ہدف GE، وغ رہ

2.alloy sputtering کے ہدف: لوہے کوبالٹ ہدف FeCo، ا لوم ن م سلکان ہدف AlSi، ٹائٹ ن م سلکان ہدف Tisi ک ، کروم م سلکان ہدف CrSi، زنک ا لوم ن م ہدف ZnAl، ٹائٹ ن م زنک ہدف TiZn، ٹائٹ ن م ا لوم ن م ہدف TiAl، ٹائٹ ن م زرکون م ہدف TiZr، ٹائٹ ن م سل کن ہدف Tisi ک ، ٹائٹ ن م نکل ہدف ت ن ، نکل کروم م ہدف NiCr، نکل ا لوم ن م ہدف nial ہم، نکل و ن ڈ م ہدف نآئو ، نکل لوہے ہدف NiFe وغ رہ ...

3.Ceramic ہدف: اتو ہدف، سلکا ٹارگٹ ا س آئ او، سلکا ہدف SiO2، ٹائٹ ن م ڈائ آکسائڈ ہدف TiO2، اٹر م آکسائڈ ہدف Y2O3، و ن ڈ م pentoxide ہدف V2O5، ٹ نٹلم pentoxide ہدف Ta2O5، niobium pentoxide کے ھدف Nb2O5، زنک آکسائڈ ہدف ZnO، زرکون م آکسائڈ ہدف ZrO، م گن ش م آکسائڈ ہدف ا م ج او، سنگل کرسٹل سلکان ہدف polysilicon ہدف، م گن ش م فلورائڈ ہدف MgF2، ک لش م فلورائ ڈ ہدف CaF2، لت م فلورائ ڈ ہدف LiF، ب ر م فلورائ ڈ ہدف BaF3، بوران کاربائڈ ہدف B4C، بوران nitride ہدف BN، سلکان کاربائڈ ہدف SIC، زنک سلفائڈ ہدف زن S، molybdenum کے سلفائڈ ہدف ر استمنتر ، ل ومنا ہدف AL2O3، اسٹرانٹ م titanate ہدف SrTiO3، زنک selenide ہدف ZnSe، گ ل م آرسنائڈ ہدف، فاسفورس گ ل م آکسائڈ ہدف، زنک آکسائڈ ہدف، زنک آکسائڈ ہدف، زنک آکسائڈ ہدف، زنک آکسائڈ ہدف، زنک آکسائڈ ہدف، زنک آکسائڈ ہدف، وغ رہ؛ طہارت: & quot؛ کے 99.9 ف صد -99،9999 & quot؛ کے مختلف سائز کے ہدف کے سائز م ں کسٹمر ک ضرور ات پروس سنگ کے مطابق.

کا ایک جوڑا:

اگلا: